奈米压印(nano-imprint)蚀刻技术还只是一研发阶段的工具，或已经成为事实？MolecularImprintsInc.(MII)日前声称，其奈米压印微影技术已通过东芝公司的认证，将用于开发22nmCMOS组件。
目前尚不清楚东芝公司是否将把奈米压印工具整合到它的22奈米制程的生产线中。在这个节点，东芝还开发了其它的蚀刻技术，如193奈米浸润式和远紫外线(EUV)技术。
MII尝试了EUV技术。“与远紫外蚀刻不同，我们的技术构建在现有的光学蚀刻基础设施之上，有助于使其适合于经济地生产非常高密度的CMOS组件，”MII公司执行长MarkMelliar-Smith表示。
“我相信我们先进的S-FIL技术是用于32奈米关键组件层应用的可行解决方案，并且是在22奈米制程节点的更高级解决方案，”他说。S-FIL是MII的奈米压印技术。
MII和东芝公司携手研究已经有一段时间。研究成果在一篇题为“NanoimprintApplicationsToward22-nmNodeCMOSDevices(22奈米节点CMOS组件的奈米压印技术应用)”的论文中做了介绍。该论文发表在于丹麦哥本哈根举行的第33届国际微米和纳米工程研讨会(MNE)上。
