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【标题】 |
纳米硅薄膜制备技术进展 |
【作者】 |
韩伟强，韩高荣，丁子上 |
【关键词】 |
纳米硅薄膜，氢基团，等离子体化学气相沉积 |
【机构】 |
浙江大学 |
【英文篇名】 |
Progress in the technology for preparation of nano-crystalline silicon films |
【中文刊名】 |
材料科学与工程 |
【年】 |
1994 |
【期】 |
02 |
【提示】 |
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